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   隨著時(shí)代的發(fā)展，科技的進(jìn)步硝鎂法生產(chǎn)濃硝酸的生產(chǎn)工藝有了較大的進(jìn)步，新型陶瓷盤(pán)式分布器的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用，改進(jìn)并優(yōu)化了工藝操作條件，并且實(shí)現(xiàn)了節(jié)約能耗的目的。 

   陶瓷盤(pán)式分布器是精餾塔內(nèi)關(guān)鍵的內(nèi)件之一，所有填料塔對(duì)液體的不均勻分布非常敏感，如果物料分布不均勻，就會(huì)導(dǎo)致精餾效率降低，尤其是低壓降的規(guī)整填料對(duì)于液體的分布要求更為苛刻。在生產(chǎn)中當(dāng)出現(xiàn)液體分布不均勻時(shí)整個(gè)精餾過(guò)程難以維持，產(chǎn)品質(zhì)量不能保證，稀硝酸鎂中的含硝量無(wú)法降低，并且無(wú)法進(jìn)行平穩(wěn)操作。因此在硝鎂法濃硝酸生產(chǎn)中要求選擇一種設(shè)計(jì)合理的分布器。

 下面萍鄉(xiāng)科隆填料為您介紹陶瓷盤(pán)式分布器的結(jié)構(gòu)和性能：

 陶瓷分布器其外形凹凸起伏,分布許多6到10毫米的孔徑。產(chǎn)品呈盆形，在分布器中間隔設(shè)置有通氣孔，在通氣孔周邊間隔設(shè)置有對(duì)流孔，對(duì)流孔上端設(shè)置有溢流口，在對(duì)流孔周邊位置的分布器下端面上設(shè)置有阻流槽。溢流口高度不大于對(duì)流孔高度的三分之一。當(dāng)液體流量較大時(shí)，為使對(duì)流孔內(nèi)氣液對(duì)流分布均勻和保持一定高度液體，在對(duì)流孔上端設(shè)置的溢流口，能使填料塔中始終能保持均勻分布的氣液對(duì)流，當(dāng)液體分布器放置不平整時(shí)，為防止液體在分布器本體底面串流，在對(duì)流孔周邊位置的分布器本體下端面上設(shè)置有阻流槽。

 陶瓷液體分布器主要適用塔徑在1.2m以下的填料塔使用，它不僅具有強(qiáng)度高、耐高溫、耐酸堿、抗腐蝕性好，使用壽命可達(dá)到20年以上，是現(xiàn)有金屬液體分布器使用壽命的十倍，而且能使液體在整個(gè)塔截面上均勻化分布液體組份，不會(huì)產(chǎn)生勾流、偏流和壁流現(xiàn)象，降低了放大效應(yīng)和端效應(yīng)的影響，從而確保了分離效率，同時(shí)可大量節(jié)省金屬材料，降低了生產(chǎn)成本和使用成本，它結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造和安裝方便。

   陶瓷液體分布器主要規(guī)格有：φ500、φ600、φ700、φ800、φ900、φ1000、φ1100、φ1200（mm）等等。如直徑為φ600mm，高度為120mm陶瓷液體分布器，產(chǎn)品中間隔設(shè)置有八只內(nèi)孔直徑為80mm的通氣孔，通氣孔下端與分布器本體平齊、上端略低于分布器本體，在通氣孔周邊的分布器本體內(nèi)設(shè)置有26 只間隔分布的對(duì)流孔，對(duì)流孔內(nèi)孔直徑為38mm，對(duì)流孔下端與分布器本體平齊，上端低于通氣孔高度，在每只對(duì)流孔上端設(shè)置有兩個(gè)溢流口，溢流口高度不大于對(duì)流孔高度的三分之一，溢流口下端與分布器內(nèi)腔底面距離為30mm，每只對(duì)流孔周邊位置的分布器下端面上設(shè)置有環(huán)形的阻流槽，阻流槽橫截面呈圓弧形，深度為5mm，當(dāng)分布器呈傾斜狀態(tài)時(shí)，液體可積存在阻流槽內(nèi)而不會(huì)在分布器底面相互串流。通氣孔和對(duì)流孔的數(shù)量、內(nèi)孔直徑和分布位置以及溢流口大小和形狀視分布器本體大小而決定。